기본 운영정책
나노종합기술원 실험관리시스템 기본 운영정책입니다.
운영정책 01
NNFC의 이용자는 모두가 NNFC의 시설을 사용하는 공동체임을 인식하고, 이 정책을 반드시 숙지하여야 합니다. 이 정책은 모든 이용자들에게 안전과 성공적인 연구 환경을 제공하기 위한 것입니다. 회원들은 개인적인 안전 뿐만 아니라 타인의 안전까지도 생각하여 다음에 기술된 모든 정책을 준수하여야 합니다.
운영정책 02
모든 이용자는 NNFC가 국내 ㆍ외 모든 나노 연구가의 공동체임을 인식하고, 전문적이고, 친절하며, 책임 있는 행동을 하여야 합니다. 참가자로서 권리가 발생하지만 문제 발생시 NNFC에 의해 권리가 취소될 수도 있습니다. NNFC의 이용은 회원들이 작성한 연구 & 실험 신청서에 기술된 연구개발에만 제한됩니다. 만약, 프로젝트 수행시 작성된 연구 & 실험 신청서의 요구범위를 벗어나는 경우에 대해서는 별도의 연구 & 실험 신청서를 작성하여야 합니다.
운영정책 03
모든 회원들은 자신의 연구개발에 있어 모든 결과물에 대하여 책임을 져야하며, NNFC는 프로젝트 결과물에 대한 어떠한 책임도 질 수 없다는 것을 인식하여야 합니다.
오염에 관하여 표준화 되어있지 않는 기판, 일반적으로 사용하지 않는 재료, 새로운 화합물과 가스, NNFC 외부에서 공정이 진행된 기판 등은 NNFC 에서 공정이 진행되기 전에, 반드시 내부의 Consulting을 통하여 검증을 받아야 합니다.
제반 규정을 숙지하는 것은 이용자로써 NNFC에서 일하는 동안 NNFC 내에서 지켜야 할 일반적인 의무이고, 건강과 안전을 위해 반드시 필요합니다.
이용자들은 NNFC 이용시 Chemical, Gas, Mechanical, Electrical, Radiation Hazard, Thermal 등의 잠재적인 위험에 노출될 수 있다는 것을 이해하여야 합니다.
또한, NNFC의 모든 이용자가 모든 규정을 지켰을때 발생되는 제반 문제점, 사고와 규정을 어겨서 발생되는 문제점 및 NNFC의 소홀로 발생되는 결과 등에 대한 보상, 책임 관련된 규정은 NNFC가 별도로 정합니다.
운영정책 04
이용자의 지적재산권을 보호하기 위하여, NNFC 정책이나 절차 외에 팹 내에서 개발되는 어떠한 기술 및 제품(모든 연구 결과물) 등에 대해 Claim이나 추가적인 규정을 만들지 아니합니다. 이용자들의 연구 결과물로부터 창출되는 지적재산권의 권리 소유는 NNFC의 법규 또는 회원과 NNFC간의 계약에 의해 처리 될 것입니다. 공동으로 개발된 기술자산의 권리는 각각의 경우 별도계약에 의해 처리 될 것입니다. NNFC 내에서 수행된 모든 업무는 상호비밀유지협약에 따라 통제됩니다.
구 분 | 운 영 | 비 고 |
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Si 소자 랩 | Si 소자 관련된 모든 연구 개발 | |
Si 관련 단위 공정 및 일괄 공정 서비스 가능 | Clean Room : 100T | |
규격화된 웨이퍼만 이용 (3~8인치) | 흰색 Smock 착용 | |
흰색 Smock 착용 | 랩 Isolation | |
NEMS & BIO 랩 | NEMS & BIO 관련 모든 연구개발 | |
NEMS 단위 공정 및 일관공정 서비스 가능 | Clean Room : 100T | |
NEMS & BIO 상호간 장비 호환 사용 가능 | 흰색 Smock 착용 | |
조각 및 8인치 웨이퍼 공정 서비스 가능 | 랩 Isolation | |
장비구매 및 Qualification은 8인치 웨이퍼 기준 | ||
분홍색 Smock 착용 | ||
Nano New Materials | Nano Cluster & Power 관련 모든 연구 개발 | |
Particle 문제로 CUB에 별도의 Room설치 (항온, 항습 조절) | CUB에 별도 Room 구성 : 항온, 항습 조절 | |
조각 및 8인치 웨이퍼 공정 서비스 가능 | - 흰색 Gown 착용 | |
Set-up 후 초기는 인치 웨이퍼 기준으로 서비스 | - 랩 Isolation | |
장비구매 및 Qualification은 8인치 웨이퍼 기준 | ||
흰색 Gown 착용 |
운영정책 05
Metal / Non-metal / Non-standard 공정 구분 기준 나노종합기술원(National NanoFab Center)에서 진행하는 모든 Process에 대하여 Metal / Non-metal process 그리고, Standard / Non-standard Process를 구분하여 Process 진행의 혼선을 방지하고, 또한 Process 혼용에 의한 Cross Contamination 을 원천적으로 봉쇄하기 위하여 Process 구분 기준 안을 아래와 같이 정의합니다.
Lab 별 구분
Silicon 소자 Lab, NEMS & Bio Lab, Nano New Mterials Lab(MOCVD 포함) 총 3개 Lab으로 구분되며, 이는 Silicon Wefer 사용 유, 무에 따라 Standard / Non-standard 공정으로 구분합니다.
- Standard 공정: Silicon 소자 lab (Litho 실 / Etch실 / Diffusion실 / Thin Film실, 특성평가실)
- Non-standard 공정 : Nems & Bip Lab, NanoNew Materials Lab (물리원천실 / 생물화학실 / 조제작실 / 나노신소재실 / NEMS실) : 기본적으로 Standard 공정과 Non-Standard 공정은 완전히 분리 운영하여 Cross contamination을 방지한다.
Process 및 장비별 구분
장비별/Chamber 별로 진행 가능한 Process가 한정되어 있으며, 각 팀 별로 장비구성 특성에 따라 Metal / Non-metal 공정 구분의 기준이 상이함.
Cassette 구분
단일 Maker 및 Material 특성으로 Casstte ID의 부착에 의해 Metal / Non-meta 공정을 구분한다.